Cuno BetaPure CMP Capsule

Seria 3M Betapure CMP Filtr kapsułowy

3M ™ Betapure ™ CMP kapsułki filtry, dawniej znany jako CUNO Optima CMP, filtry o dużej pojemności są zoptymalizowane do głębokości zawiesin tlenków i metali stosowanych w chemicznej planarisation mechaniczne (CMP) aplikacji.
Kapsułki Betapure CMP składają się z elementów wszystkich-PP i posiada multi-zone "gradedporosity" projekt dla optymalnego poziomu klasyfikacji cząstek.
Konstrukcja ta zapewnia lepsze właściwości fl OW, w tym małym spadku ciśnienia, aby zminimalizować cięcie w zawiesinie, zapewniając jednocześnie doskonałą trwałość.
Filtracja zawiesiny CMP jest trudny proces w porównaniu do filtracji wysokiej czystości substancji chemicznych stosowanych w przemyśle elektronicznym. Filtracja wysoka czystość chemiczna jest zazwyczaj wykonywane przy użyciu 0,2 mikrona lub mocniej filtry membranowe, które mają ostry usuwania cząstek odcięcia przy znamionowym wielkości porów.
Większość zawiesin CMP zawierają pożądaną średnią wielkość cząstek, która mieści się w zakresie od 0,03 do 0,2 mikronów.
W związku z tym, filtr, który został specjalnie zaprojektowany dla cząstek wyjaśnienia wysokich chemikaliów czystości byłoby rozebrać się pożądanych cząstek i negatywnie wpływać na właściwości polerowania zawiesiny CMP.

Cechy i zalety

• Lepsze usuwanie zanieczyszczeń, twardych i miękkich żelowych na ograniczonej defectivity i ze zwiększoną wydajnością
• Wysoka zdolność zatrzymywania zanieczyszczeń zmniejsza czas przestoju i zwiększa ogólną wydajność sprzętu
• Kapsułki są "dopasowane" do zawiesiny zapewniając optymalny poziom wydajności potrzebnej do drastycznego zmniejszenia cząstek powoduje defektów
• Zapewnia niski spadek ciśnienia redukujący potencjalne l uid ścinania zawiesiny
• Tanie torebki, wolne ekstrakcja z klejów, spoiw i środków powierzchniowo czynnych
• Doskonała zgodność chemiczna z niskim i wysokim pH zawiesin
• ISO System zarządzania certiied jakości
• Wytwarzane i pakowane podwójnie w czystym środowisku, aby zapewnić doskonałą dalszego czystości z opakowania
• Zapewnia stałą jakość gnojowicy umożliwia powtarzalność procesu planaryzacji
• szybka instalacja
• Redukcja przestojów
• Zredukowana obsługa niebezpiecznych chemikaliów

Warunki pracy

• Maksymalna temperatura pracy 40 ° C (104 ° F)
• Maksymalne ciśnienie różnicowe 5,2 bar (75 psi)

Typowe zastosowania

• półprzewodników
• przechowywanie danych
• transmisja danych
• związek półprzewodników

Dane mogą ulec zmianie bez uprzedzenia.